Method for producing conjugated diene
　　Kento Kurita, Yucho Wnag, Satoshi Sato, Atsushi Okita, Kazuniri Honda
　　US 11,717,807 B2 登録 Aug. 8, 2023

Method for Producing Glycol from Polyhydric Alcohol
　　Ryoji Takahashi, Tetsuro Kizaki, Keizo Iwatani, Xin Chen, Satoshi Sato 
　　US patent, US8,921,616 (Dec. 30, 2014), (WO2012/096323).

Crystalline Inorganic Porous Material
　　Ryoji Takahashi, Satoshi Sato, Akiyuki Yachi 
　　Eur patent, EP1394113 (April 29, 2009).

Crystalline Inorganic Porous Material and Production Process Therefor
　　Ryoji Takahashi, Satoshi Sato, Akiyuki Yachi 
　　US patent, US7267812B2 (Sept. 11, 2007).

Method for Producing Inorganic Porous Material
　　Ryoji Takahashi, Satoshi Sato, Akiyuki Yachi 
　　US patent, US7045106B2 (PCT Pub. No: WO02/085785 A1, 2002).

1,3-ブタジエン製造用触媒、前期触媒の製造方法及び共役1,3-ブタジエンの製造方法
　　佐藤智司, 汪宇超，本田一規
　　特許第号７４２７３５５（Ｐ７４２７３５５）登録　 令和６年１月２６日
　　特願２０１８−０３７８６８　（出願日　平成３０年３月２日）

アルデヒドからのアルドール縮合物製造方法
　　佐藤智司, 乾貫一郎
　　特許第号７３２９２１９（Ｐ７３２９２１９）登録　 令和５年８月９日
　　特願２０２０−５３２３０２　（出願日　令和１年７月１６日）

共役ジエン製造用触媒、前期触媒の製造方法及び共役ジエンの製造方法
　　栗田健人，汪宇超，佐藤智司, 沖田充司，本田一規
　　特許第号７２６２１８９（Ｐ７２６２１８９）登録　 令和５年４月１３日
　　特願２０１８−１４７０６２　（出願日　平成３０年８月３日）

ジエン化合物の製造方法
　　佐藤智司, 工藤大輔, 奥村吉邦，細木康弘，林慎也，板垣真太郎，吉村真幸
　　特許第号６８１５５９４（Ｐ６８１５５９４）登録　 令和２年１２月２５日
　　特願２０１６−０７５９７２　（出願日　平成２８年４月５日）

不飽和アルコールの製造方法及び触媒
　　佐藤智司, 四元理香子, 板垣真太郎, 奥村吉邦
　　特許第号６５５２３５５（Ｐ６５５２３５５）登録　 令和１年７月１２日
　　特願２０１５−１８８０５７　（出願日　平成２７年９月２５日）

プロピレン及び／又は１−プロパノールの製造方法
　　佐藤智司, 孫　道来, 
　　特許第号６４８４８８７（Ｐ６４８４８８７）登録　 平成３１年３月１日
　　特願２０１４−１８５６７８　（出願日　平成２６年９月１１日）

不飽和アルコールの製造方法および触媒
　　佐藤智司, 四元理香子, 板垣真太郎, 奥村吉邦
　　特許第号６４６２４９８（Ｐ６４６２４９８）登録　 平成３１年１月１１日
　　特願２０１５−１１５６４９　（出願日　平成２７年６月８日）

レブリン酸／エステルの水素化触媒、それを用いたラクトン合成反応、及びラクトン製造設備
　　佐藤智司, 香取崇広, 陳　新
　　特許第号６２３８５３０（Ｐ６２３８５３０）登録　 平成２９年１１月１０日
　　特願２０１３−３８８１７　特開２０１４−１６６６０４

アルデヒドの製造方法及び酸化タングステン−担体複合体の製造方法
　　佐藤智司, 孫　道来
　　特許第号６２２６３２６（Ｐ６２２６３２６）登録　 平成２９年１０月２０日
　　特願２０１４−９４０９２　特開２０１５−２０９４２２

１，３−ブタジエン及び／又は３−ブテン−２−オールの製造方法
　　坂見　敏, 山田勝成, 佐藤智司, 段　海玲
　　特許第号６１７５３１９（Ｐ６１７５３１９）登録　 平成２９年７月１４日
　　特願２０１３−１８６９４６　特開２０１５−５４８１８

多価アルコールからのヒドロキシケトンの製造方法
　　木崎哲朗, 岩谷敬三, 陳 新, 酒井大輔, 佐藤智司 
　　特許第５７７６８７２号（Ｐ５７７６８７２）登録　 平成２７年７月１７日
　　特願２０１１−４７３５　特開２０１２−１４４４９２

δ−バレロラクトンの製造方法 
　　佐藤智司, 齊藤光具, 西尾正幸
　　特許第５６４５０６５号（Ｐ５６４５０６５）登録　 平成２６年１１月１４日
　　特願２０１０−２０４７３０　特開２０１２−５６９２７

ヒドロピラン類の製造方法
　　佐藤智司, 五十嵐純, 西尾正幸
　　特許第５５６２６８７１号（Ｐ５６２６８７１）登録　 平成２６年１０月１０日
　　特願２０１０−２０１２５２　特開２０１２−５６８７８

ω−アルケン−１−オールの製造方法
　　佐藤智司, 大石祐輔, 石崎健朗, 堀 容嗣
　　特許第５５８００１３号（Ｐ５５８００１３）登録　 平成２６年７月１８日
　　特願２００９−２１３０２９　特開２０１１−０６３５１９

グリセリンからグリコール及び１−プロパノールの製造方法
　　佐藤智司, 秋山正樹，森慶太郎，乾貫一郎，横多正浩
　　特許第５５５５８６７号（Ｐ５５５５８６７） 登録　平成２６年６月１３日
　　特願２０１０−５２３８４８
　　国際出願　ＰＣＴ／ＪＰ２００９／０６３７５６　国際公開　ＷＯ２０１０／０１６４６２

３価以上のアルコールからのヒドロキシケトン製造方法およびそれに用いる触媒
　　佐藤智司, 秋山正樹，乾貫一郎，横多正浩  
　　特許第５１８７６７５号（Ｐ５１８７６７５）登録　 平成２５年２月１日
　　特願２００７−１５５１４７　特開２００８−３０８４１１

不飽和アルコールの製造方法
　　井澤雄輔，高橋和成，佐藤智司, 井上宏智  
　　特許第５１１５３６８号（Ｐ５１１５３６８）登録　 平成２４年１０月２６日
　　特願２００８−１７８６０９　特開２００９−４０７６８

樹脂−シリカ複合構造体およびその製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 石附正成, 松谷勝博, 三上直樹  
　　特許第４８０１３９９号（Ｐ４８０１３９９） 登録　平成２３年８月１２日
　　特願２００５−２５７１６１　特開２００７−７０１４４

球状シリカ粉末の製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 石附正成, 松谷勝博, 三上直樹  
　　特許第４６１７２６７号（Ｐ４６１７２６７） 登録　平成２２年１０月２９日
　　特願２００６−０６７５２４　特開２００７−２３８４２０

不飽和アルコール製造用触媒およびそれを用いた不飽和アルコール製造法
　　佐藤智司、高橋亮治
　　特許第４６０８６６２号（Ｐ４６０８６６２） 登録　平成２２年１０月２２日
　　特願２００７−５１３５５３
　　国際出願 ＰＣＴ／ＪＰ２００７／０５０７７５　 国際公開 ＷＯ２００７／０８３７３６

結晶性シリケート多孔質体
　　佐藤智司, 高橋亮治, 松谷勝博, 石附正成, 三上直樹  
　　特許第４６０６３４０号（Ｐ４６０６３４０） 登録　平成２２年１０月１５日
　　特願２００６−０２４８２４　特開２００７−２０４３１４

マクロ細孔を有する結晶性シリカ系多孔質材料
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特許第４６０６０３５号（Ｐ４６０６０３５） 登録　平成２２年１０月１５日
　　特願２００４−０２８７１０　特開２００５−２１９９５７

マイクロリアクター及びその製造方法
　　佐藤智司、高橋亮治、松谷勝博、石附正成、三上直樹
　　特許第４５００７８７号（Ｐ４５００７８７） 登録　平成２２年４月２３日
　　特願２００６−１８３２２７　特開２００７−９０３２４

不飽和アルコール製造用触媒及びそれを用いた不飽和アルコールの製造方法
　　佐藤智司、高橋亮治、乾貫一郎
　　特許第４４２８５３０号（Ｐ４４２８５３０） 登録　平成２１年１２月２５日
　　特願２００５−０２５６６２　特開２００６−２１２４９５

不飽和アルコールの製造方法及びそれに用いられる不飽和アルコール製造用触媒
　　佐藤智司、高橋亮治、乾貫一郎
　　特許第４４２４７４６号（Ｐ４４２４７４６） 登録　平成２１年１２月１８日
　　特願２００５−０２５６６３　特開２００６−２１２４９６

Ｎｉ／ＳｉＯ２触媒およびその製造方法
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特許第４４８１０４３号（Ｐ４４８１０４３）登録　平成２２年３月２６日
　　特願２００４−６７１２１　特開２００５−２５４０９１　

無機多孔質材料の製造法
　　高橋亮治、佐藤智司、谷地　明幸
　　特許第４３６１２７８号（Ｐ４３６１２７８） 登録　平成２１年８月２１日
　　特願２００２−５８３３２３
　　国際出願 ＰＣＴ／ＪＰ２００２／００３７８４　 国際公開 ＷＯ２００２／０８５７８５

二元細孔シリカの製造方法
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹
　　特許第４２６８５４８号（Ｐ４２６８５４８）登録　平成２１年２月２７日
　　特願２００４−９３５８９　特開２００５−２８１０１２

不飽和アルコール製造用触媒と不飽和アルコール製造方法
　　佐藤智司、高橋亮治
　　特許第３８００２０５号（Ｐ３８００２０５） 登録　平成１８年５月１２日
　　特願２００３−２０７０４９　特開２００４−３０６０１１

  ３−ブテン−２−オール及び１，３−ブタジエンの製造方法
　　坂見　敏, 山田勝成, 塚本大治郎, 佐藤智司, 段　海玲
　　特願２０１３−１８６９７８　特開２０１５−５４８１９

  １，３−ブタジエン及び／又は３−ブテン−２−オールの製造方法
　　坂見　敏, 山田勝成, 佐藤智司, 段　海玲
　　特願２０１３−１８６９４６　特開２０１５−５４８１８

  レブリン酸／エステルの水素化触媒、それを用いたラクトン合成反応、及びラクトン製造設備
　　佐藤智司, 香取崇広, 陳 新
　　特願２０１３−３８８１７　特開２０１４−１６６６０４

  １，３−ブタジエンの二量化方法及び４−ビニルシクロヘキセンの製造方法 
　　佐藤智司, 孫 道来
　　特願２０１１−１９７７２５　特開２０１３−５６８７４

  １，２−ジオールからの低級飽和アルデヒド製造方法 
　　佐藤智司, 成田亮輔, 乾貫一郎
　　特願２０１１−１９６１２５　特開２０１３−５６８４７

  ブタジエン類の製造方法 
　　佐藤智司, 佐藤夏海
　　特願２０１１−１２５７４　特開２０１２−１５２６７９

  多価アルコールからのヒドロキシケトンの製造方法
　　木崎哲朗, 岩谷敬三, 陳 新, 酒井大輔, 佐藤智司 
　　特願２０１１−４７３５　特開２０１２−１４４４９２

  多価アルコールからのグリコールの製造方法
　　木崎哲朗, 岩谷敬三, 陳 新, 佐藤智司
　　特願２０１１−４７３４　特開２０１２−１４４４９１

  δ−バレロラクトンの製造方法 
　　佐藤智司, 齊藤光具, 西尾正幸
　　特願２０１０−２０４７３０　特開２０１２−５６９２７

  ヒドロピラン類の製造方法 
　　佐藤智司, 五十嵐純, 西尾正幸
　　特願２０１０−２０１２５２　特開２０１２−５６８７８

  アミド又はラクタムの製造方法 
　　佐藤智司, 星野秀明, 杉本常実
　　特願２０１０−１９８２２４　特開２０１２−５６８４６

  アミド又はラクタムの製造方法 
　　佐藤智司, 星野秀明, 杉本常実
　　特願２０１０−１９８２２３　特開２０１２−５６８４５

  アミド又はラクタムの製造方法 
　　佐藤智司, 星野秀明, 杉本常実, 柏木公一
　　特願２０１０−４０７１８　特開２０１１−８８８８３

ω−アルケン−１−オールの製造方法
　　佐藤智司, 大石祐輔, 石崎健朗, 堀 容嗣
　　特願２００９−２１３０２９　特開２０１１−０６３５１９

１，２−ジオールからの低級飽和アルデヒド製造方法
　　佐藤智司, 森 慶太郎, 乾貫一郎, 横多正浩
　　特願２００９−２４７１２　特開２０１０−１８０１５６

不飽和アルコールを製造する方法
　　佐藤智司, 阿部克俊  
　　特願２００８−２１２３９１　特開２０１０−４７５０５

不飽和アルコールの製造方法 
　　井澤雄輔，高橋和成，佐藤智司, 井上宏智  
　　特願２００８−１７８６０９　特開２００９−４０７６８

不飽和アルコールの製造方法 
　　井澤雄輔，高橋和成，佐藤智司, 小舩美香  
　　特願２００７−１８７５２２　特開２００９−２３９２８

多価アルコールからのヒドロキシケトン製造方法およびそれに用いる触媒
　　佐藤智司, 秋山正樹, 乾貫一郎, 横多正浩  
　　特願２００７−１５５１４７　特開２００８−３０８４１１

結晶性リン酸アルミニウム多孔質構造体およびその製造方法 
　　高橋亮治, 佐藤智司, 石附 正成, 谷地明幸, 三上直樹  
　　特願２００７−２０１２０　特開２００８−１８４３６８

アクロレイン製造用触媒及びそれを用いたアクロレイン製造方法 
　　佐藤智司, 高橋亮治  
　　特願２００６−３５２８６３　特開２００８−８８１４９

マイクロリアクター及びその製造方法 
　　佐藤智司, 高橋亮治, 石附正成, 三上直樹  
　　特願２００６−２５１８２５　特開２００８−６８２４１

二元細孔シリカ−アルミナ複合酸化物の製造方法 
　　佐藤智司, 高橋亮治, 石附正成, 松谷勝博, 三上直樹  
　　特願２００６−２０８１０２　特開２００８−３１０１５

多価アルコールの脱水方法
　　Bo-Qing XU, Song-Hai CHAI, 高橋　典, 島　昌秀, 佐藤智司, 高橋亮治
　　国際出願番号 : ＰＣＴ／ＪＰ２００６／３２２７７７ 　国際公開番号 : ＷＯ２００７／０５８２２１ 

球状シリカ粉末の製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 石附正成, 松谷勝博, 三上直樹  
　　特願２００６−６７５２４　特開２００７−２３８４２０

結晶性シリケート多孔質体
　　佐藤智司, 高橋亮治, 松谷勝博, 石附正成, 三上直樹  
　　特願２００６−２４８２４　特開２００７−２０４３１４

マイクロリアクター及びその製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 松谷勝博, 石附正成, 三上直樹  
　　特願２００６−１８３２２７　特開２００７−９０３２４

二元細孔シリカの製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 松谷勝博, 石附正成, 三上直樹  
　　特願２００５−２５７１６２　特開２００７−７０１４５

樹脂−シリカ複合構造体およびその製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 石附正成, 松谷勝博, 三上直樹  
　　特願２００５−２５７１６１　特開２００７−７０１４４

不飽和アルコール製造用触媒及びそれを用いた不飽和アルコールの製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 乾貫一郎　
　　特願２００５−２５６６２ 特開２００６−２１２４９５

不飽和アルコールの製造方法及びそれに用いられる不飽和アルコール製造用触媒
　　佐藤智司, 高橋亮治, 乾貫一郎　
　　特願２００５−２５６６３ 特開２００６−２１２４９６

筒状多孔質シリカ及びその製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 三上直樹, 松谷勝博, 石附正成
　　特許出願２００６−１３７８３  特許公開２００６−２４０９８２

二元細孔シリカ及びその製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治, 三上直樹, 松谷勝博, 石附正成　
　　特願２００５−２７０６４　特開２００６−２１３５５８

二元細孔シリカの製造方法
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特願２００４−９３５８９　特開２００５−２８１０１２

Ｒｈ／ＳｉＯ２触媒
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特願２００４−９３５８８　特開２００５−２７９３３７

不飽和ケトン製造用触媒および不飽和ケトンの製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治　
　　特願２００４−８３０７１　特開２００５−２６２１８３

Ｎｉ／ＳｉＯ２触媒およびその製造方法
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特願２００４−６７１２１　特開２００５−２５４０９１

不飽和アルコール製造用触媒およびその触媒を用いた不飽和アルコールの製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治　
　　特願２００４−５１０６７　特開２００５−２３８０９５

マクロ細孔を有する結晶性シリカ系多孔質材料
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特願２００４−２８７１０　特開２００５−２１９９５７

結晶性無機多孔質材料およびその製造方法
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特願２００４−２８６９１　特開２００５−２１９９５６

結晶性無機多孔質材料およびその製造方法
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特願２００４−２８６９０　特開２００５−２１９９５５

オイルミスト除去フィルター
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特願２００４−２８７０９　特開２００５−２１８９４４

ヒドロキシケトン製造用触媒およびその触媒を用いたヒドロキシケトンの製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治　
　　特願２００４−２５８４９　特開２００５−２１１８８１

二元細孔シリカ粒子
　　高橋亮治, 佐藤智司, 松谷勝博, 三上直樹　
　　特願２００３−４００２０２　特開２００５−１６２５０４

不飽和アルコール製造用触媒と不飽和アルコール製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治　
　　特願２００３−２０７０４９　特開２００４−３０６０１１

断熱調湿材とそれを用いる建築材
　　永井弘, 伊藤仁士, 佐藤智司, 高橋亮治　
　　特願２００３−７６８３９　特開２００４−２８５６１１

二元細孔シリカゲル担持パラジウムを用いた接触水素添加反応方法
　　佐藤智司, 高橋亮治　
　　特願２００３−４３４００　特開２００４−２５０３８７

結晶性無機多孔質材料およびその製造方法
　　高橋亮治, 佐藤智司, 谷地明幸　
　　特願２００３−２０８４０１　特開２００４−１４３０３５

安定な金属酸化物微粒子とその製造方法
　　佐藤智司, 高橋亮治　
　　特願２００１−２４５３９８　特開２００３−５４９１５

不飽和ポリマー水素化触媒および水素化ポリマーラテックスの製造方法
　　鍋島泰彦, 小白井厚典, 藤本雅治, 佐藤智司　
　　特願２００１−３２８３５８　特開２００３−１２６６９８

フェノールの製造方法
　　野崎文男, 佐藤智司, 広沢耕造, 戸田靖彦　
　　特許出願平５−５２２９１　特許公開平６−２６３６６８

無機多孔質材料の製造法
　　高橋亮治, 佐藤智司, 谷地明幸
　　国際出願番号 : ＰＣＴ／ＪＰ２００２／００３７８４ 　国際公開番号 : ＷＯ２００２／０８５７８５